氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮

　　氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：

　　3SiH4+4NH3Si3N4+12H2

　　（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：

　　反应原理：4NH4Cl+Mg2Si4NH3↑+SiH4↑+2MgCl2（△H<0）

　　①NH4Cl的化学键类型有____________，SiH4电子式为_______________。

　　②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是________________________。

　　③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式_______，实验室可利用如图所示装置完成该反应。

　　在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是_____________。

　　（2）三硅酸镁（Mg2Si3O8∙nH2O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂。它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H2SiO3还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激。三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为_______________________________。将0.184g三硅酸镁加到50mL0.1mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1mol/LNaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30mL，则Mg2Si3O8∙nH2O的n值为_________。（注：Mg2Si3O8的摩尔质量为260g/mol）