来自桂竹成的问题
【三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2高温.Si+2CO↑2C+SiO2高温.Si+2CO↑（2）上述生产流】
三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：
（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2 高温 .
Si+2CO↑
2C+SiO2 高温 .
Si+2CO↑
（2）上述生产流程中可循环使用的物质是______和______
（3）上述4步中，是氧化-还原反应的是（填序号）______．
